Penkios Japonijos elektronikos bendrovės susitarė drauge statyti 200 milijardų jenų vertės mikroschemų gamyklą.
Darbus ketinama pradėti 2006 metais. Pirmosios gamykloje pagamintos mikroschemos turėtų pasirodyti jau 2007-aisiais. Pirmi naujosios gamyklos produktai veikiausiai bus LSI mikroschemos, gaminamos naudojant 65 nanometrų technologinį procesą.
Naująją gamyklą įrengti bei eksplotuoti ketina įspūdingas tekančios saulės šalies bendrovių būrys – “Hitachi”, “Toshiba”, “Matsushita Electric”, “Mitsubishi Electric”, “Renesas Technology”.
Pirmasyk apie
bendrą projektą rugsėjo mėnesį užsiminė “Hitachi” atstovai. Jų teigimu,
bendradarbiavimas su kitomis kompanijos padeda efektyviai sumažinti didelius
gamyklų įrengimo bei eksplotavimo kaštus.
Darbus ketinama pradėti 2006 metais. Pirmosios gamykloje pagamintos mikroschemos turėtų pasirodyti jau 2007-aisiais. Pirmi naujosios gamyklos produktai veikiausiai bus LSI mikroschemos, gaminamos naudojant 65 nanometrų technologinį procesą.
Naująją gamyklą įrengti bei eksplotuoti ketina įspūdingas tekančios saulės šalies bendrovių būrys – “Hitachi”, “Toshiba”, “Matsushita Electric”, “Mitsubishi Electric”, “Renesas Technology”.
Pirmasyk apie
bendrą projektą rugsėjo mėnesį užsiminė “Hitachi” atstovai. Jų teigimu,
bendradarbiavimas su kitomis kompanijos padeda efektyviai sumažinti didelius
gamyklų įrengimo bei eksplotavimo kaštus.
“Games.lt”
